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多功能高倍率校準(zhǔn)卡

多功能高倍率校準(zhǔn)卡

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 更新時(shí)間:2023-12-19
  • 產(chǎn)品介紹:多功能高倍率校準(zhǔn)卡這種“集多功能于一身"的校準(zhǔn)卡可用來(lái)校準(zhǔn)顯微鏡和機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)的參數(shù),而不需分別校正。本卡可用來(lái)測(cè)試和校準(zhǔn)Mitutoyo物鏡,Zeiss物鏡,以及高倍視頻鏡頭的分辨率,畸變,以及景深(DOF)等等。測(cè)試卡中包括各種頻率的蝕刻線(xiàn),一組柵格和同心圓,一組微刻尺,以及邊緣撐塊來(lái)支撐 測(cè)量景深的卡。帶使用信息卡, 一盤(pán)CD(操作說(shuō)明),以及NIST認(rèn)證說(shuō)明。
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 在線(xiàn)留言

產(chǎn)品介紹

價(jià)格區(qū)間1萬(wàn)-5萬(wàn)組件類(lèi)別光學(xué)元件
應(yīng)用領(lǐng)域電子

多功能高倍率校準(zhǔn)卡


Ø用來(lái)測(cè)試校準(zhǔn),適用于顯微鏡和機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)

Ø包括蝕刻線(xiàn)(郎奇制作法)同心圓,正方形柵格,以及直線(xiàn)微尺

Ø有兩種測(cè)試卡選,分別用在不同的倍率

Ø附帶NIST認(rèn)證

這種“集多功能于一身”的校準(zhǔn)卡可用來(lái)校準(zhǔn)顯微鏡和機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)的參數(shù),而不需分別校正。本卡可用來(lái)測(cè)試和校準(zhǔn)Mitutoyo物鏡,Zeiss物鏡,以及高倍視頻鏡頭的分辨率,畸變,以及景深(DOF)等等。測(cè)試卡中包括各種頻率的蝕刻線(xiàn),一組柵格和同心圓,一組微刻尺,以及邊緣撐塊來(lái)支撐 測(cè)量景深的卡。帶使用信息卡, 一盤(pán)CD(操作說(shuō)明),以及NIST認(rèn)證說(shuō)明。

低頻測(cè)試板用在倍率為4X到20X的物鏡,適合用在機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)上的低倍長(zhǎng)焦系統(tǒng)

高頻測(cè)試板用在倍率為20X到100X的物鏡,可用在顯微鏡和其它高倍短焦系統(tǒng)。

多功能高倍率校準(zhǔn)卡通用規(guī)格

基底:

Fused Silica

平行度(弧分):

1.00

涂層:

Evaporated Chrome Pattern

尺寸(英寸):

1 x 3

整體精度 (μm):

±1.0

表面平整度:

3 - 4λ

 

訂購(gòu)信息:

標(biāo)題

產(chǎn)品號(hào)

4x 到 20x 多功能目標(biāo)板

#56-076

20x 到 100x 多功能目標(biāo)板

#56-077

 

技術(shù)數(shù)據(jù)

4X - 20X Target Specifications - Concentric Circles

Outer Diameter (mm)

Line Spacing (mm)

Line Width (μm)

5.0

0.25

20

4.0

0.25

15

3.0

0.25

10

2.0

0.10

7.5

1.0

0.10

5


 

4X - 20X Target Specifications - Grids

Width (mm)

Line Spacing (mm)

Line Width (μm)

4.5

0.25

20

4.5

0.25

15

4.5

0.25

10

4.5

0.10

15

4.5

0.10

10

4.5

0.10

5

2.55

0.075

10

2.55

0.075

5

2.55

0.050

5

2.55

0.050

2.5

4X - 20X Target Specifications - Ronchi Rulings

Range (lp/mm)

Frequency Change (lp/mm)

60 - 380

20

 

4X - 20X Target Specifications - Linear Microscale

Length (mm)

Divisions/mm

Microns/divisions

0 - 68.2

20

50

 

20X - 100X Target Specifications - Concentric Circles

Outer Diameter (mm)

Line Spacing (mm)

Line Width (μm)

3.0

0.25

10

2.0

0.10

7.5

1.5

0.10

5

1.0

0.05

5

1.0

0.05

2.5

20X - 100X Target Specifications - Grids

Width (mm)

Line Spacing (mm)

Line Width (μm)

3.0

0.25

10

3.0

0.25

7.5

3.0

0.25

5

3.0

0.10

10

3.0

0.10

7.5

3.0

0.10

5

2.55

0.075

10

2.55

0.075

5

2.55

0.050

5

2.55

0.050

2.5

20X - 100X Target Specifications - Ronchi Rulings

Range (lp/mm)

Frequency Change (lp/mm)

240 - 600

10

 

20X - 100X Target Specifications - Linear Microscale

Length (mm)

Divisions/mm

Microns/divisions

0 - 68.2

20

50

 

4X to 20X Multi-Function Target

庫(kù)存 #56-076

Coating:

Evaporated Chrome Pattern

Substrate:

Fused Silica

Dimensions (inches):

1 x 3

Surface Quality:

20-10

Thickness (mm):

6.35

Overall Accuracy (μm):

±1.0

Parallelism (arcmin):

1

Surface Flatness:

3 - 4λ

RoHS:

符合標(biāo)準(zhǔn)

 

20X to 100X Multi-Function Target

庫(kù)存 #56-077

Coating:

Evaporated Chrome Pattern

Substrate:

Fused Silica

Dimensions (inches):

1 x 3

Surface Quality:

10-2

Thickness (mm):

9.00

Overall Accuracy (μm):

±1.0

Parallelism (arcmin):

1

Surface Flatness:

3 - 4λ

RoHS:

符合標(biāo)準(zhǔn)

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